설명

Sputtering targets are materials from which thin films are grown by sputtering method, and the targets are fabricated by processing metals or ceramics. The global sputtering targets market is set to grow by US$ 1.43 10억 동안 2021-2027, 연평균 성장률로 성장 (CAGR) ~의 6.4% 예측 기간 동안, 데이터 및 분석 회사 StrategyHelix에 따르면.

이 보고서는 기간 동안 최신 시장 규모 데이터를 제공합니다. 2017-2020 그리고 예측 2027 covering key market aspects like sales value for sputtering targets. The global sputtering targets market is segmented on the basis of material, 애플리케이션, 지역. By material, it is categorized into metals & pure elements, oxides, alloys, 다른 사람. The metals & pure elements segment held the largest market share in 2020. 신청으로, the sputtering targets market is divided into data storage, displays, energy, 산업의, microelectronics, optical coatings, 다른 사람. The energy segment accounted for the largest market share in 2020. 지역에 따라, the sputtering targets market is divided into North America, 아시아 태평양, 유럽, 및 기타 국가 (열).

The report has profiled some of the key players of the market such as Beijing Goodwill Metal Technology Co. (주), China New Metal Materials Technology Co. (주), Corning Inc., Daido Steel Co. (주), FURUYA METAL Co. (주), GRIKIN Advanced Material Co. (주), H.C. Starck GmbH, Hitachi Metals Ltd., 하니웰인터내셔널(주), JX Nippon Mining & Metals Corporation, Kobe Steel Ltd., Materion Corporation, Mitsui Mining & Smelting Co. (주). (MMS), Plansee SE, Praxair Inc., Sumitomo Chemical Co. (주), Tosoh Corporation, ULVAC Inc., Umicore N.V..

이 보고서는 이 업계에서 활동하는 회사 및 조직에 매우 귀중한 리소스입니다.. It provides a cohesive picture of the sputtering targets market to help drive informed decision making for industry executives, 정책 입안자, 학생, 및 분석가.

보고 범위

재료: metals & pure elements, oxides, alloys, 다른 사람
애플리케이션: data storage, displays, energy, 산업의, microelectronics, optical coatings, 다른 사람
지역: 북아메리카, 아시아 태평양, 유럽, 및 기타 국가 (열)
고려한 연도: 이 보고서는 기간을 다룹니다 2017 에게 2027

이해관계자를 위한 주요 이점

Get a comprehensive picture of the global sputtering targets market
성장 분야 및 투자 동향 파악
Understand what the future of the global sputtering targets market looks like
경쟁 구도 및 기회의 창 식별

목차

1. 시장 정의
2. 연구 방법론
3. 시장 데이터 & 시야
3.1 시장 가치
3.2 시장 가치 예측
4. Sputtering Targets Market by Material
4.1 Metals & Pure Elements
4.2 Oxides
4.3 Alloys
4.4 기타
5. Sputtering Targets Market by Application
5.1 Data Storage
5.2 Displays
5.3 에너지
5.4 산업용
5.5 Microelectronics
5.6 Optical Coatings
5.7 기타
6. Sputtering Targets Market by Region
6.1 북아메리카
6.2 아시아 태평양
6.3 유럽
6.4 나머지 세계 (열)
7. 회사 프로필
7.1 Beijing Goodwill Metal Technology Co., (주).
7.2 China New Metal Materials Technology Co., (주).
7.3 Corning Inc.
7.4 Daido Steel Co., (주).
7.5 FURUYA METAL Co., (주).
7.6 GRIKIN Advanced Material Co., (주)
7.7 H.C. Starck GmbH
7.8 Hitachi Metals, (주).
7.9 Honeywell International Inc.
7.10 JX Nippon Mining & Metals Corporation
7.11 Kobe Steel, (주).
7.12 Materion Corporation
7.13 Mitsui Mining & Smelting Co., (주). (MMS)
7.14 Plansee SE
7.15 Praxair, 주식회사.
7.16 Sumitomo Chemical Co., (주).
7.17 Tosoh Corporation
7.18 ULVAC, 주식회사.
7.19 Umicore N.V.
8. 부록
8.1 스트래티지헬릭스 소개
8.2 부인 성명