Global Atomic Layer Deposition (ALD) Market 2022
- Rapporto sul mercato
- ID: HT25396G
- Tempi di consegna: 1 Giorno lavorativo
- Etichetta: Atomic Layer Deposition
Descrizione
According to a report by StrategyHelix, the global atomic layer deposition market is set to increase by US$ 1.7 miliardi durante 2022-2028, growing at a CAGR of 6.8% durante il periodo di previsione.
Il rapporto fornisce dati aggiornati sulle dimensioni del mercato per il periodo 2018-2021 e previsione a 2028 covering key market aspects like sales value for atomic layer deposition. The global atomic layer deposition market is segmented on the basis of product, applicazione, e regione. In base al prodotto, the global atomic layer deposition market has been segmented into aluminum oxide ALD, catalytic ALD, metal ALD, plasma-enhanced ALD, altri. Per applicazione, the global atomic layer deposition market has been segmented into automotive, healthcare and biomedical, semiconductor and electronics, altri. Geograficamente, the global atomic layer deposition market is segmented into Asia Pacific, Europa, Nord America, Rest of the World (RoW).
The global atomic layer deposition market is highly competitive. The prominent players operating in the global atomic layer deposition market include Adeka Corporation, Applied Materials Inc. (Picosun Oy), ASM International NV, Beneq Oy, Eugene Technology Co. Ltd., Kokusai Electric Corporation, Kurt J. Lesker Company, Lam Research Corporation, Oxford Instruments plc, Tokyo Electron Limited, Veeco Instruments Inc. Competitive landscape gives a description of the competitive nature of the global atomic layer deposition market and a description of the leading companies. Vengono individuati i principali accordi finanziari che hanno plasmato il mercato negli ultimi anni.
Il rapporto è una risorsa inestimabile per le aziende e le organizzazioni attive in questo settore. It provides a cohesive picture of the atomic layer deposition market to help drive informed decision making for industry executives, decisori politici, accademico, e analisti.
Ambito del rapporto
Prodotto: aluminum oxide ALD, catalytic ALD, metal ALD, plasma-enhanced ALD, altri
Applicazione: automotive, healthcare and biomedical, semiconductor and electronics, altri
Regione: Asia Pacifico, Europa, Nord America, Rest of the World (RoW)
Anni considerati: la presente relazione copre il periodo 2018 A 2028
Azienda menzionata: Adeka Corporation, Applied Materials Inc. (Picosun Oy), ASM International NV, Beneq Oy, Eugene Technology Co. Ltd., Kokusai Electric Corporation, Kurt J. Lesker Company, Lam Research Corporation, Oxford Instruments plc, Tokyo Electron Limited, Veeco Instruments Inc.
Principali vantaggi per gli stakeholder
– Get a comprehensive picture of the global atomic layer deposition market
– Individuare i settori in crescita e le tendenze per gli investimenti
Sommario
Parte 1. introduzione
– Ambito dello studio
– Periodo di studio
– Ambito geografico
– Metodologia di ricerca
Parte 2. Atomic layer deposition market overview
Parte 3. Ripartizione del mercato per prodotto
– Aluminum oxide ALD
– Catalytic ALD
– Metal ALD
– Plasma-enhanced ALD
– Altri
Parte 4. Market breakdown by application
– Settore automobilistico
– Healthcare and biomedical
– Semiconductor and electronics
– Altri
Parte 5. Market breakdown by region
– Asia Pacifico
– Europa
– Nord America
– Rest of the World (RoW)
Parte 6. Aziende chiave
– Adeka Corporation
– Applied Materials Inc. (Picosun Oy)
– ASM International NV
– Beneq Oy
– Eugene Technology Co., Ltd.
– Kokusai Electric Corporation
– Kurt J. Lesker Company
– Lam Research Corporation
– Oxford Instruments plc
– Tokyo Electron Limited
– Veeco Instruments Inc.
Informazioni su StrategyHelix
Disclaimer
Dollaro statunitense 650