Global Sputtering Targets Market 2021
- बाज़ार रिपोर्ट
- पहचान: HL22892G
- डिलीवरी का समय: 1 दिन के कारोबार
- टैग: Sputtering Targets
विवरण
Sputtering targets are materials from which thin films are grown by sputtering method, and the targets are fabricated by processing metals or ceramics. The global sputtering targets market is set to grow by US$ 1.43 के दौरान अरब 2021-2027, growing at a compound annual growth rate (सीएजीआर) का 6.4% पूर्वानुमान अवधि के दौरान, डेटा और एनालिटिक्स कंपनी स्ट्रैटेजीहेलिक्स के अनुसार.
रिपोर्ट अवधि के लिए नवीनतम बाज़ार आकार डेटा प्रदान करती है 2017-2020 और पूर्वानुमान करें 2027 covering key market aspects like sales value for sputtering targets. The global sputtering targets market is segmented on the basis of material, आवेदन, region. By material, it is categorized into metals & pure elements, oxides, alloys, और दूसरे. The metals & pure elements segment held the largest market share in 2020. By application, the sputtering targets market is divided into data storage, displays, energy, industrial, microelectronics, optical coatings, और दूसरे. The energy segment accounted for the largest market share in 2020. Based on region, the sputtering targets market is divided into North America, एशिया प्रशांत, यूरोप, and Rest of the World (ROW).
The report has profiled some of the key players of the market such as Beijing Goodwill Metal Technology Co. लिमिटेड, China New Metal Materials Technology Co. लिमिटेड, Corning Inc., Daido Steel Co. लिमिटेड, FURUYA METAL Co. लिमिटेड, GRIKIN Advanced Material Co. लिमिटेड, H.C. Starck GmbH, Hitachi Metals Ltd., हनीवेल इंटरनेशनल इंक., JX Nippon Mining & Metals Corporation, Kobe Steel Ltd., Materion Corporation, Mitsui Mining & Smelting Co. लिमिटेड. (MMS), Plansee SE, Praxair Inc., Sumitomo Chemical Co. लिमिटेड, Tosoh Corporation, ULVAC Inc., Umicore N.V..
यह रिपोर्ट इस उद्योग में सक्रिय कंपनियों और संगठनों के लिए एक अमूल्य संसाधन है. It provides a cohesive picture of the sputtering targets market to help drive informed decision making for industry executives, नीति निर्माताओं, अकादमिक, और विश्लेषक.
रिपोर्ट का दायरा
Material: metals & pure elements, oxides, alloys, और दूसरे
आवेदन: data storage, displays, energy, industrial, microelectronics, optical coatings, और दूसरे
क्षेत्र: उत्तरी अमेरिका, एशिया प्रशांत, यूरोप, and Rest of the World (ROW)
वर्षों पर विचार किया गया: यह रिपोर्ट उस अवधि को कवर करती है 2017 को 2027
हितधारकों के लिए मुख्य लाभ
Get a comprehensive picture of the global sputtering targets market
विकास क्षेत्रों और निवेश के रुझानों को इंगित करें
Understand what the future of the global sputtering targets market looks like
प्रतिस्पर्धी परिदृश्य और अवसर की खिड़की की पहचान करें
विषयसूची
1. बाज़ार परिभाषा
2. अनुसंधान क्रियाविधि
3. बाजार के आंकड़े & आउटलुक
3.1 बाजार मूल्य
3.2 बाज़ार मूल्य का पूर्वानुमान
4. Sputtering Targets Market by Material
4.1 Metals & Pure Elements
4.2 Oxides
4.3 Alloys
4.4 अन्य
5. Sputtering Targets Market by Application
5.1 Data Storage
5.2 Displays
5.3 ऊर्जा
5.4 Industrial
5.5 Microelectronics
5.6 Optical Coatings
5.7 अन्य
6. Sputtering Targets Market by Region
6.1 उत्तरी अमेरिका
6.2 एशिया प्रशांत
6.3 यूरोप
6.4 Rest Of The World (Row)
7. कंपनी प्रोफाइल
7.1 Beijing Goodwill Metal Technology Co., लिमिटेड.
7.2 China New Metal Materials Technology Co., लिमिटेड.
7.3 Corning Inc.
7.4 Daido Steel Co., लिमिटेड.
7.5 FURUYA METAL Co., लिमिटेड.
7.6 GRIKIN Advanced Material Co., लिमिटेड
7.7 H.C. Starck GmbH
7.8 Hitachi Metals, लिमिटेड.
7.9 हनीवेल इंटरनेशनल इंक.
7.10 JX Nippon Mining & Metals Corporation
7.11 Kobe Steel, लिमिटेड.
7.12 Materion Corporation
7.13 Mitsui Mining & Smelting Co., लिमिटेड. (MMS)
7.14 Plansee SE
7.15 Praxair, इंक.
7.16 Sumitomo Chemical Co., लिमिटेड.
7.17 Tosoh Corporation
7.18 ULVAC, इंक.
7.19 Umicore N.V.
8. अनुबंध
8.1 स्ट्रेटेजीहेलिक्स के बारे में
8.2 अस्वीकरण
USD 2,750